Sic substrate rau cvd zaj duab xis txheej

Cov lus piav qhia luv luv:

Chemical Vapor Deposition Tshuaj Vapor Depositionion (CVD) Oxide yog ib tug txheej txheem kev loj hlob uas muaj yeeb yaj kiab yooj yim rau hauv ib tug reafer. Cov txheej txheem kev loj hlob yog qhov kub me thiab muaj cov nqi siab dua thaum muab piv rau cov pa thermal. Nws kuj tseem ua tau ntau dua thinner cov txheej txheem dioxide vim tias zaj duab xis yog deposted, es tsis txhob loj hlob. Tus txheej txheem no tsim ib zaj duab xis nrog hluav taws xob tsis kam, uas yog qhov zoo rau kev siv hauv ICS thiab MEMS li lwm yam ...


  • Chaw nres nkoj:Weifang lossis Qingdao
  • Tshiab MoHS Hardness: 13
  • Cov Khoom Siv Raw:Silicon Carbide
  • Khoom Qhia Qhia

    ZPC - Silicon Carbide Ceramic Chaw tsim tshuaj paus

    Khoom Ntawv

    Kev Siv Tshuaj Vauv Deposition

    Chemical Vapor Deposition (CVD) Oxide yog txheej txheem kev loj hlob uas muaj yees duab ua ntej tso rau hauv ib tus reafer. Cov txheej txheem loj hlob yog tsawg kub thiab muaj cov nqi siab dua thaum muab piv rauTHERMAL OXIDECov. Nws kuj tseem ua tau ntau dua thinner cov txheej txheem dioxide vim tias zaj duab xis yog deposted, es tsis txhob loj hlob. Tus txheej txheem no ua yeeb yaj kiab nrog kev tiv thaiv hluav taws xob siab, uas yog qhov zoo rau kev siv hauv ICS thiab MEMS li lwm cov ntawv thov.

    Chemical Vapor Deposition (CVD) Oxide tau ua thaum txheej sab nraud yog xav tau tab sis silicon subtomate yuav tsis muaj oxidized.

    Tshuaj Vacor Deposition Kev Loj Hlob:

    CVD kev loj hlob tshwm sim thaum roj lossis vapor (precursor) tau qhia rau hauv qhov chaw kub tsawg reactor uas wafers yog teem rau kab xev lossis tav toj. Cov roj txav los ntawm cov kab ke thiab faib covyees thoob plaws ntawm wafers. Raws li cov ua ntej txav los ntawm cov reactor, Wafers pib nqus lawv mus rau saum lawv.

    Thaum cov prefiteors tau faib cov yaum kom muaj kev cuam tshuam thoob plaws hauv lub system, tshuaj lom neeg pib ua raws cov npoo ntawm cov substrates. Cov tshuaj lom neeg pib ua cov Islands tuaj, thiab raws li cov txheej txheem txuas ntxiv mus, cov koog pov txwv loj tuaj thiab sib koom ua ke los tsim zaj duab xis xav tau. Tshuaj lom neeg muaj cov biproducts rau saum npoo av, uas diffuse thoob plaws ntawm cov kab ciam teb thiab ntws tawm ntawm cov kab ciam teb thiab khiav tawm ntawm cov wafers nrog lawv cov khoom tso tawm ua ntej.

    Daim duab 1

    Tshuaj Vauv Vacor Deposition

     

    (1.) Roj / Vapor pib tawm tsam thiab tsim cov Islands tuaj ntawm ARStrate nto. (2.) Islands tuaj thiab pib sib koom ua ke. (3.) Nruam, Uniform Zaj Duab Xis tsim.
     

    Cov txiaj ntsig ntawm cov tshuaj Vapor Deposition:

    • Cov txheej txheem kub tsis muaj kub.
    • Tus nqi tos ceev ceev (tshwj xeeb yog APCVD).
    • Tsis tas yuav ua silicon substrate.
    • Cov kauj ruam zoo ntawm kauj ruam (tshwj xeeb yog Pecvd).
    Daim Duab 2
    CVD thiab cov pa roj thermalSilicon Dioxide Tupition Vs. Kev Loj Hlob

     


    Yog xav paub ntxiv txog cov vapor tso tshuaj lom neeg lossis thov kom muaj cov lus hais, thovHu rau SVMNiaj hnub no los tham nrog ib tus tswv cuab ntawm pab pawg muag khoom.


    Hom CVD

    Lpcvd

    Tsis tshua muaj tshuaj vapor deposition yog tus qauv tshuaj siv cov txheej txheem valor cov txheej txheem tsis muaj kev ntsuas. Qhov loj sib txawv ntawm LPCVD thiab lwm txoj kev CVD yog kev tso nyiaj kub. LPCVD siv qhov kub siab tshaj plaws kom tso cov yeeb yaj kiab, feem ntau ib nrab ntawm 600 ° C.

    The low-pressure environment creates a very uniform film with high purity, reproducibility, and homogeneity. Qhov no yog ua ntawm 10 - 1,000 teev, thaum lub sijhawm chav siab siab yog 101,325 PA. Kub

     

    Xoo nyeem

    Ntshav cov tshuaj lom neeg vapor deposition yog qhov kub tsawg, siab zaj duab xis ceev Density Depigition cov txheej txheem. Pecvd siv qhov chaw hauv CVD reactor nrog ntxiv ntawm cov ntshav, uas yog ib feem ionized ionized roj nrog lub siab dawb hluav taws xob cov ntsiab lus (~ 50%). Qhov no yog qhov ntsuas kub tsawg tsawg uas yuav siv ntawm 100 ° C - 400 ° C. Pecvd tuaj yeem ua tau ntawm cov kub kub vim tias lub zog los ntawm cov hluav taws xob dawb discociates cov roj cua ua rau cov yeeb yaj kiab.

    Qhov no cov phiaj xwm no siv ob hom ntshav:

    1. Txias (tsis-thermal): electrons muaj qhov kub siab dua li nruab nrab ntawm nruab nrab thiab ions. Cov qauv no siv lub zog hluav taws xob ntawm cov hluav taws xob los ntawm kev hloov lub siab nyob rau hauv chav tos txais.
    2. Thermal: Lub tshuab hluav taws xob yog tib qho kub raws li cov hais thiab ions thiab hauv cov chav tso tawm.

    Sab hauv cov chav tso tawm, xov tooj cua-zaus voltage yog xa ntawm cov electrodes saum toj no thiab hauv qab wafer. Qhov no them cov tshuab hluav taws xob thiab khaws cia rau lub xeev zoo hauv kev txiav txim siab qhov xav tau zaj duab xis.

    Muaj plaub kauj ruam kom cog cov yeeb yaj kiab ntawm Pecvd:

    1. Tso lub hom phiaj wafer ntawm cov electrode sab hauv cov chaw xa khoom.
    2. Ua kom paub cov roj av reactive thiab cov ntsiab lus tso tawm mus rau Chamber.
    3. Xa cov ntshav ntawm hluav taws xob thiab thov voltage kom ua kom muaj kev kub ntxhov.
    4. Rhuav cov roj sib cais thiab cov kev tawm tsam nrog cov wafer saum npoo los ua ib zaj duab xis nyias, los ntawm byproducts diffuse ntawm Chamber.

     

    Tus AP

    Cov tshuaj tiv thaiv kev siv tshuaj tiv thaiv cov pa hluav taws xob siab yog cov txheej txheem tso tawm kub tsawg uas yuav siv sij hawm nyob rau hauv lub cub tawg ntawm cov qauv cua. Zoo li lwm cov CVD txoj kev, APCVD yuav tsum muaj cov pa xa pa, tom qab maj mam nce mus rau cov kev tawm tsam thiab tso nyiaj rau cov yeeb yaj kiab nyias nyias. Vim yog qhov yooj yim ntawm cov qauv no, nws muaj tus nqi tshaj tawm heev.

    • Cov yeeb yaj kiab uas tau tso: doped thiab undoped silicon oxides, silicon nitrides. Kuj siv nyob rau hauvib tug anerting.

    HDP CVD

    Kev kub siab ntawm plasma chotion vapor deposition yog ib qho qauv ntawm Pecvd uas siv ntau dua cov wafpers kom hnov ​​mob nrog kub (ntawm 80 ° C). Qhov no kuj ua ib zaj duab xis nrog cov loj trench ua lub peev xwm.

    • Cov yeeb yaj kiab uas niaj hnub tso: silicon dioxide (sio2), silicon nitride (Si3N4),Silicon Carbide (Sic).

    Sacvd

    Subatmospheric siab tshuaj lom neeg vapor dependition txawv ntawm lwm txoj kev vim nws siv qhov chaw hauv qab no txheem chav siab thiab siv ozone (o3) los pab ua rau cov tshuaj tiv thaiv. Cov txheej txheem thauj khoom tau tshwm sim nyob rau ntawm lub siab dua li LPCvd tab sis qis dua li APCVD, nruab nrab thiab 80,000 Pa thiab 80,000 PA.

    • Cov yeeb yaj kiab uas muaj cov khoom tso nyiaj:BAsg, Psg,Tus teos.

  • Yav dhau los:
  • Tom ntej:

  • Shandong Zhongpeng Tshwj Xeeb Ceramics Co., Ltd yog ib qho loj tshaj plaws silicon carbide khaub thuas cov khoom siv tshiab hauv Suav teb. Txuj lom sic: moh lub hardness yog 9 (tshiab Moh lub hardness yog 13), nrog kev tiv thaiv zoo heev rau kev tawm tsam - tsis kam thiab anti-oxidation. Sic cov khoom lag luam lub neej yog 4 txog 5 zaug ntev dua 92% alumina khoom. Lub mor ntawm RBSIC yog 5 txog 7 zaug ntawm snbsc, nws tuaj yeem siv rau cov duab nyuaj ntxiv. Cov txheej txheem hais tawm tau nrawm, kev xa khoom yog li tau cog lus tseg thiab qhov zoo yog thib ob rau tsis muaj. Peb ib txwm ua siab ntev hauv peb lub hom phiaj nyuaj thiab muab peb lub siab rov qab rau tib neeg.

     

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