SIC sui mo le CVD Ata Tifaga

Faʻamatalaga puʻupuʻu:

Chemical Spar Inparetion Chemical Sparking Processions (CVD) OxIde o se laina tuputupu aʻe o le taimi o le suʻega o le kesi i luga o le ata. O le tuputupu aʻe o le alualu i luma o le vevela vevela ma ua tele atu lona tuputupu aʻe o le tuputupu aʻe pe a faʻatusatusa i le vevela vevela. E gaosia ai foi le manifinifi sili ona manifinifi silikini dioxide o loʻo faʻapipiʻiina aua o le ata ua teuina, nai lo le matua. O lenei faiga e maua ai se ata tifaga ma le maualuga eletise eletise eletise, lea e sili mo le faʻaaogaina i le OCs ma mems masini, faʻatasi ai ma isi ...


  • Port:Wifsung po o le qingdao
  • Fou Mohs faigata: 13
  • Main Raw mea:Silikini carbide
  • Faamatalaga auiliiliga

    ZPC - silikid carbide chramic gaosi oloa

    Oloa Tags

    Chemical Spar Faletupe

    O le vailaau o le BAPACOR totogi (CVD) oxide o se laina tuputupu aʻe o le taimi o se kesi o loʻo teu ai le kesi i luga o le ata i luga o le O le tuputupu aʻe o le alualu i luma o le vevela vevela ma e sili atu le maualuga o le tuputupu aʻe o le tuputupu aʻe pe a faʻatusatusa ivevela vevela. E gaosia ai foi le manifinifi sili ona manifinifi silikini dioxide o loʻo faʻapipiʻiina aua o le ata ua teuina, nai lo le matua. O lenei faiga e maua ai se ata tifaga ma le maualuga eletise eletise eletise, e sili mo le faʻaaogaina i Oss ma mems masini, i totonu o isi apalaiga.

    O le vailaau o le Spartic Sina (CVD) oxide o loʻo faia pe a manaʻomia se vaega i fafo ae e le mafai e le aupito sili ona lelei.

    Chemical Spar Inpace Decation Tupulaga:

    O le tuputupu aʻe o le CVD e tupu pe a fai o le kesi poʻo le amor (o le muamua) e faʻalauiloaina i totonu o le maualalo o le vevela o le mea e faʻatulaga ai le faʻaupuga pe faʻaoʻo. O le kesi e agai atu i le system ma tufatufa tutusa i luga o le pito i luga o le 'ie. E pei ona agaʻi atu nei tagata i le tagata faʻatau, o loʻo amata ona faʻaaoga e le au mea faigaluega i luga o latou laualuga.

    A uma loa ona tufatufa mai tagata o loʻo lafoina i le taimi atoa, o vailaʻau o loʻo amata i luga o le laufanua o le mea ua suia. O nei talatalanoaga o loʻo amata ai i le motu, ma o loʻo faʻaauau pea le gaioiga, o atumotu ua agai ma tuʻu i ai le faia o le ata puʻeata. O vailaʻau o loʻo fai ai ni mea e fai ai ni mea e maua ai i luga o le 'ie, lea e ono aʻafia ai le tuaoi o le laina, ma alu ese mai le tagata o loʻo taofia ma a latou meaʻai.

    Ata 1

    Chemict Vapia Totogi Totogi

     

    (1.) Kasania / SPAPR e amata ona tali atu ma ituaiga o motu i luga o le mea e tupu ai. (2.) Islands tuputupu aʻe ma amata ona faʻatasia faʻatasi. (3.) faʻaauau pea, toniga faʻa-tino.
     

    Faamanuiaga o le Chemi Spar Inpaction:

    • Maualalo le vevela o le tuputupu ae.
    • Vave teuina fua faatatau (aemaise apcvd).
    • E le tatau ona avea ma mea siliki e tupu.
    • Laasaga lelei Courvera (aemaise le pecvd).
    Ata 2
    CVD VS. O le Hermal OxideSilikini dioxide ua teuina vs. tuputupu ae

     


    Mo nisi faʻamatalaga i luga o le vailaau o le vailaʻauFaʻafesoʻotaʻi SVMO le taimi nei e talanoa ai ma se sui o la matou au faʻatau 'au.


    Ituaiga o CVD

    Lpcvd

    Maualalo o le mamafa o le vailaau o le afuapaina o se vailaʻau faʻapitoa o le vailaau o le vailaʻau faasaina e aunoa ma le faʻamalosi. O le tele o eseesega i le va o lpcvd ma isi CVD metotia o le teuina o le vevela. LPCVD faʻaaogaina le maualuga maualuga o le vevela i le teuina o ata tifaga, masani luga 600 ° C.

    O le maualalo o le faʻamalosi o le siʻosiʻomaga e fausia ai se ata tutusa i le maualuga o le mama, aua le toe mafai, ma homogenely. O lenei ua faatinoina i le va o le 10 - 1,000 pa, a o le tele o le mamafa o le tino o le 101,325 pa.

     

    Pecvd

    Plasma faaleleia le vailaau o le vailaau o le vevela o le vevela vevela, maualuga ata tifaga o le teu oloa. O le PECVD e faia i le CVD toese ma le faʻaopopoina o le plasma, o se tasi o le kesi ionazed kesi ma se maualuga fua o le electron mea (~ 50%). O se auala maualalo lea o le tau o le teuina o le auala e faia i le va o le 100 ° C - 400 ° C. O le Pecvd e mafai ona faʻatinoina i le maualalo o le vevela ona o le malosi mai le saʻoloto eletise e faʻaititia ai le tali le mautonu e fai ai se ata i luga o le malae

    O lenei metotia o loʻo faʻaaogaina e lua ituaiga eseese o plasma:

    1. Malulu (le-le-le-le-le-electrons maua maualuga le vevela nai lo ni vaega le mautonu ma le afiafi. O lenei metotia faʻaaogaina le malosi o le eletole eletise e ala i le suia o le mamafa i le potu teu potu.
    2. O le Faletupe: Electrons e tutusa lava le vevela pei o vaega ma fanua i totonu o le potu teutusi.

    Totonu o le potu teu potu, o le leitio-e masani ona lafoina i le va o le eletise i luga ma lalo ifo o le walfer. O nei moliaga o le electrons ma tausia i se tulaga le talafeagai ina ia teu ai le ata tifaga.

    E fa sitepu e faʻateleina ai ata e ala i le pecvd:

    1. Tuu le sini o le polofesa i luga o le electrode i totonu o le potu teu potu.
    2. Faʻailoa mai le kesi ma le teuina o elemene i le potu.
    3. Auina atu plasma i le va o electrodes ma faʻaaoga voltage e faʻaosofia ai le plasma.
    4. O le toe faʻafouina kesi e faʻamatuʻu ma tali atu ma le anufe luga e fai ai se manifinifi ata tifaga, e leai se motusia o le potu.

     

    Apcvd

    O le Ammospherac Prompmic Creapacle Teuina o se tau maualalo o le tau o le teuina o le tau o loʻo faia i totonu o le ogaumu i le tulaga o le Ammosphertic. Pei o isi auala CVD, apcvd manaʻomia se kesi kesi i totonu o le potu o le teu potu, ona oso lemu ai lea o le vevela o le 'ai i luga o le malae. Ona o le faigofie o lenei metotia, o loʻo i ai se maualuga o le faʻaaogaina o fua faatatau.

    • Paʻaga masani tupe teu: gaosia ma le le taliaina le sili o le manogi manogi, solcion nitrides. Faaaogaina foi i totonulapataiga.

    HDP CVD

    O le maualuga maualuga o le Plasma Chemic Creapactiction o se lomiga o Pecvd e faʻaaogaina ai se maualuga maualuga o le presma, lea e mafai ai ona tali atu i le vevela. O lenei mea na fausia ai foi se ata ma le tele o le utu e tumu ai tomai.


    Salvd

    O loʻo ese le faʻaaogaina o le Creatommoscherico Creapacle Depace o loʻo ese mai isi metotia ona e faia i lalo o le potu faʻapitoa ma faʻaaoga le ozone (o3) Ia fesoasoani e talia le tali. O le faʻatupeina o faʻagasologa e tupu i se maualuga maualuga nai lo lpcvd ae maualalo ifo nai lo apcvd, i le va o le vevela o loʻo i ai le vevela.


  • Talu ai:
  • Le isi:

  • Shandong zongpeng faapitoa Ceramtics Co., Ltd o se tasi o le sili sili ona tele-birbon carbic chictic fou mea i Saina. SIC Skill Cermic: Moh's le faigata o le 9 (New Moh o le 13), ma le sili atu le tetee atu i le tafia ma le porosion, sili atu, lelei. SIC Office's Services Olaga o le 4 i le 5 taimi umi atu nai lo 92% Alumini Mea. O le Mor o RBSIC o le 5 i le 7 taimi o Snabsc, e mafai ona faʻaaogaina mo sili atu faʻafitauli foliga. O le upusii faʻamatalaga e vave, o le tilivaina e pei ona folafolaina ma o le uiga o le lona lua i se tasi. E masani lava ona tatou faʻaosofia le luʻi a tatou sini ma tuʻua o tatou loto i tua i sosaiete.

     

    1 SIC COODROMIC HOUNS 工厂

    Fesootai oloa

    Whatsapp lugalaina talanoaga!