炭化ケイ素とSiCセラミックについて

炭化ケイ素は、優れた耐腐食性、高い機械的強度、高い熱伝導性、非常に低い熱膨張係数、そして非常に高温におけるアルミニウムセルよりも優れた耐熱衝撃性を備えています。炭化ケイ素は、結晶格子内で強固に結合した炭素原子とケイ素原子の四面体で構成されています。これにより、非常に硬く強固な材料となります。炭化ケイ素は、800℃まで酸、アルカリ、溶融塩による侵食を受けません。空気中では、1200℃で保護的な酸化ケイ素コーティングを形成し、1600℃まで使用できます。高い熱伝導性に加え、低い熱膨張率と高い強度が、この材料に並外れた耐熱衝撃性を与えています。粒界不純物がほとんどまたは全くない炭化ケイ素セラミックは、非常に高温でも強度を維持し、1600℃に近づいても強度低下はありません。化学的純度、高温における化学的侵食に対する耐性、そして高温での強度維持といった特性から、この材料は半導体製造炉のウェーハトレイ支持部やパドルとして広く利用されています。この材料の優れた電気伝導性は、電気炉の抵抗発熱体、サーミスタ（温度可変抵抗器）およびバリスタ（電圧可変抵抗器）の主要部品として利用されています。その他の用途としては、シール面、摩耗プレート、ベアリング、ライナーチューブなどがあります。