Yr egwyddor sylfaenol o dynnu llwch ffroenell desulphurizing yw gwahanu gronynnau llwch o'r atmosffer neu fwg
Yn gyntaf, mae'r gronynnau llwch yn cael eu gwlychu â chwistrell ddŵr i gynyddu maint y gronynnau a'r disgyrchiant penodol. Yna bydd y gronynnau llwch yn gwahanu oddi wrth yr atmosffer neu'r nwy ffliw. Pan fydd y ffroenell desulfurization wedi torri, mae angen inni gymryd y ffroenell i lawr. Mae'r gweithrediad penodol fel a ganlyn:
1) dylid cadw'r rhannau wrth gefn neu'r darnau sbâr yn gywir: Mae gan gyflenwyr cyffredinol becynnu a labelu arbennig, hynny yw, dylid eu gosod heb eu defnyddio. Dylid socian y nozzles desulfurizing tynnu mewn olew (gasoline, olew disel, ac ati) i atal rhwd.
2) Pan fo diffyg ynghylch ffroenell desulfurization yn cael ei defnyddio, mae angen torri'r archwiliad ffroenell i lawr. Rhaid i ddefnyddwyr ddefnyddio offer arbennig neu offer addas i ddadosod a dadelfennu perthynas cydosod gam wrth gam.
3) Dylid gosod y nozzles a dynnwyd ar unwaith ar y fainc prawf ffroenell yn lle unrhyw driniaeth. Yn ôl y pwysau gweithio rhagnodedig, cynhelir nodweddion llif, canfod ongl chwistrellu ac arsylwi ansawdd chwistrellu. Gellir datrys hyn wrth ddatrys problemau.
Mae'r ffroenell desulfurization wedi dod i'r amlwg o dan y gofynion diogelu'r amgylchedd. Prif bwrpas y cynnyrch yw desulphurate nwy ac yn y blaen. Mae hyn yn gwneud cynhyrchu diwydiannol yn fwy ecogyfeillgar. Disgrifir priodweddau cemegol y ffroenell desulfurizing isod, ac rydym yn edrych ymlaen at eich helpu.
Ymwrthedd ocsideiddio nozzles desulphurizing
Pan gaiff deunydd carbid silicon ei gynhesu i 1300 gradd mewn aer, mae haen amddiffynnol silicon deuocsid yn cael ei ffurfio ar wyneb grisial carbid silicon. Mae tewychu'r haen amddiffynnol yn atal y carbid silicon mewnol rhag parhau i ocsideiddio. Mae hyn yn gwneud i'r carbid silicon wrthwynebiad ocsideiddio da. Pan fydd y tymheredd yn uwch na 1900K (1627 C), mae'r ffilm amddiffynnol silica yn cael ei ddinistrio. Ar y pwynt hwn, mae ocsidiad carbid silicon yn cael ei waethygu. Felly, 1900K yw tymheredd gweithio uchaf carbid silicon mewn awyrgylch ocsideiddiol.
Ymwrthedd asid ac alcalïaidd ffroenellau desulphurizing:
Yn yr agwedd o wrthwynebiad asid, ymwrthedd alcali ac ocsidiad, gall swyddogaeth ffilm amddiffynnol silicon deuocsid wella ymwrthedd asid a gwrthiant alcali carbid silicon.
Amser post: Gorff-25-2018